Цели и способы легирования

Цели легирования

При изготовлении полупроводников легирование считается неотъемлемым технологическим процессом (наряду с осаждением и травлением). Его основная цель — коррекция типа проводимости и концентрации носителей в объёме полупроводника для достижения определённых свойств (получения нужной плавности pn-перехода). Самые распространённые элементы для легирования кремния — фосфор Р и мышьяк As (позволяют получить n-тип проводимости) и бор В (p-тип).

Способы легирования

На сегодня известно три различные технологии легирования: ионная имплантация, термодиффузия и нейтронно-трансмутационное легирование.

Купить, цена

На складе ООО «Электровек-сталь» представлен широкий ассортимент изделий из легированных материалов. Реализуем сертифицированную продукцию, цена зависит от объёма и дополнительных условий поставок. Мы ценим время своих клиентов, поэтому всегда готовы помочь с оптимальным выбором. К вашим услугам опытные менеджеры-консультанты. Качество продукции гарантируется строгим соблюдением норм производства. Сроки выполнения заказов минимальные. Оптовые покупатели получают льготные скидки.